信越化学工業は創立100周年を迎えました信越化学工業は創立100周年を迎えました

総合年表

1926年の創業から現在までの信越化学グループの主な出来事を年表形式で掲載しています。

1976-1985

  • 1976
    • 1.1
      直江津工場、小集団活動「PAIR-N」発足
    • 1.-
      合成香料“アルファ・イロン”の販売開始
    • 信越フィルム、出資比率変更(当社42.5%、三菱レイヨン42.5%、GE15%)
    • 2.28
      磯部工場、ジャンクションコーティングレジン製造設備完成
    • 2.-
      直江津工場の塩ビポリマー(特殊品)再建計画中止
    • 4.1
      信越エンジニアリング設立(工務本部を独立)
    • 大阪支社を支店に改称。名古屋営業所を支店に、広島、仙台、札幌、高松の各出張所を営業所に昇格
    • 5.14
      シレス社への塩ビ製造新技術およびプラント輸出契約締結
    • 5.18
      武生工場、タンタルの製造中止
    • 6.1
      新金属事業部にマグネット部設置
    • 6.-
      武生工場、レア・アースマグネットの製造開始
    • 7.1
      信越フィルム武生工場、操業開始
    • 7.8
    • 8.30
      直江津工場、ポバールの製造中止
    • 8.-
      直江津電子工業、拡散ウエハーの製造開始
    • 9.1
      事業部組織を再編し、塩ビ、シリコーン、海外の3事業本部と電子材料、セルロース、化学品、化成品の4事業部設置
    • シリコーン電子材料技術研究所、塩ビ技術研究所設置
    • 12.1
      直江津工場、CFシラン製造設備完成
    • 長野および高崎に営業所設置
    • 12.-
      武生工場、シリコーンゴムコンパウンドの製造開始
  • 1977
    • 2.1
      従業員持株制度発足
    • 3.1
      米ファイアストンタイヤ&ラバー社への塩ビ製造技術・プラント輸出契約締結
    • 合成技術研究所設置
    • 4.-
      シリコーン事業本部、「シリコーンニューズ」創刊
    • 4.30
      ユニチカケミカルの出資比率変更(当社出資比率30%)
    • 6.1
      磁性材料研究所設置
    • 6.-
      武生工場、モールデイングコンパウンド(MC)製造開始
    • 7.1
      シンコーモールド設立
    • 7.28
      塩ビ技術研究所、第2研究棟完成
    • 7.-
      武生工場、カルシウムシリコンの製造中止
    • 8.1
      仏シェルシミー社への塩ビ製造新技術プラント輸出契約締結
    • 8.22
      直江津工場、青葉アルコール製造設備完成
    • 8.-
      信越フィルムの全株式取得(当社全額出資子会社となる)
    • 10.25
    • 11.1
      社長室の経営調査部、企画部を統合し、社長室とする。人材開発本部、技術本部、研究開発本部廃止。人事部、技術部、環境保安部、研究開発部、特許部設置。セルロース事業部廃止。ファインケミカル事業部(セルロース部、合成香料部、開発部)設置
    • 福岡営業所を支店に昇格
    • 12.1
      産業情報センター設立
    • 12.-
      武生工場、シリコンマグネシウム合金の製造中止
    • 信越半導体磯部工場、ガリウム・リン単結晶製造開始
  • 1978
    • 1.26
      磯部工場、エポキシモールデイングコンパウンド(EMC)試験生産設備完成
    • 1.31
      直江津工場、金属ケイ素の製造中止
    • 武生工場、ケイ素鉄、SGシリコン、アランダムの製造中止
    • 2.1
      シンエツ化成設立(直江津工場の肥料部門独立)
    • 直江津産業設立(直江津工場の業務部門独立)
    • 信越包装設立(磯部工場の包装出荷部門独立)
    • 信越電炉設立(武生工場のアランダム製造部門独立)
    • 直江津警備、武生警備、磯部警備設立(各工場の守衛所独立)
    • 2.-
      シリコーン電子材料技術研究所、合成石英の試験生産開始
    • 3.-
      日信化学工業の塩ビ事業を吸収
    • 4.22
      シリコーン電子材料技術研究所、東研究棟完成
    • 4.-
      ロンドン駐在員事務所設置
    • 7.-
      シンテック社、フリーポート工場第1次増設工事完成(年産15万t)
    • 8.10
      武生工場、マグネット加工工場完成
    • 10.-
      信越半導体磯部工場、多結晶シリコンの製造中止(直江津工場で集中生産)
    • 11.24
    • 11.30
      武生工場、レア・アース製造設備完成(溶媒抽出法)
    • 12.29
      中国技術進口総公司への塩ビ製造新技術・プラント輸出契約締結
    • 12.-
      信越フィルム、中国技術進口総公司へのOPPフィルムプラント輸出契約締結
  • 1979
    • 1.1
      鹿島工場、塩ビの受託生産開始
    • 2.16
      磯部工場、メチルシラン合成設備(MR-7 A)完成
    • 2.-
      ソウル駐在員事務所設置
    • 3.14
      信越半導体がSEHアメリカ社設立
    • 4.-
      直江津電子工業、合成石英フォトマスク基板の加工開始
    • 4.2
      信越機工設立
    • 5.15
      メキシコのプリメックス社への塩ビ製造新技術輸出契約締結
    • 5.-
      台北駐在員事務所設置
    • 6.1
      信越半導体の全株式取得(当社全額出資子会社となる)
    • 酢ビ・ポバール事業部設置。塩ビ事業本部に化成品部設置(化成品事業部廃止)
    • 6.13
      第1回転換社債(60億円)発行
    • 9.20
      信越半導体が仏にSEHヨーロッパ社設立
    • 9.-
      信越半導体磯部工場、CZ法単結晶シリコンの製造再開
    • 10.23
      直江津工場、塩ビ重合用ノンスケール剤製造設備完成
    • 10.-
      合成技術研究所、合成石英設備増強工事完成
    • 12.25
      信越石英、正英石英硝子に資本参加
  • 1980
    • 1.-
      合成技術研究所、合成石英フォトマスク基板の量産開始
    • 信越石英、正英石英硝子の全株式を取得
    • 3.1
      福井プラントメンテ設立
    • 3.10
      「セルロース誘導体の水系コーティング技術」で大河内記念生産賞受賞
    • 3.13
      磯部工場、メチルシラン合成設備(MR-7 B)完成
    • 3.-
      合成技術研究所、合成性フェロモンの試験生産開始
    • 4.-
      「連続低温プラズマ表面処理技術」で科学技術庁長官賞受賞
    • 直江津工場、ビニルシラン製造設備完成
    • 5.29
      武生工場、熱収縮ゴムチュープ製造設備完成
    • 5.-
      直江津電子工業、合成石英の加工開始
    • 10.14
      合成技術研究所、第2研究棟完成
    • 12.1
      時価公募増資完了(新資本金125億円)
    • 12.15
      武生産業が信武磁工設立
    • 12.-
      磯部工場、金属ケイ素を全量輸入品に切り替え
  • 1981
    • 1.1
      合成石英の製造を合成技術研究所から直江津工場へ移管
    • 1.-
      鹿島工場グループ、小集団活動「DASH-K」発足
    • 2.5
      信越金属工業がシンユウ設立(金属ケイ素粉砕部門を独立)
    • 2.10
      電子材料事業部に精密材料部設置
    • 2.26
      信越ポリマーがシンエツポリマーアメリカ社設立
    • 2.-
      SEHアメリカ社、イヤーアウト工場操業開始
    • SEHマレーシア社、第2工場操業開始
    • 3.-
      シンテック社、フリーポート工場第2次増設工事完成(年産33万t)
    • 4.1
      直江津工場、火力発電所の操業中止
    • 5.19
      「大型重合器による塩ビ重合技術の工業化」で日本化学工業協会技術賞受賞
    • 10.2
      磯部工場、安中工業団地(郷原地区)取得
    • 10.12
      シンエツ化成、カーバイドの製造中止
    • 10.14
      韓国(ソウル)駐在員事務所設置
    • 10.-
    • 11.-
      南陽工場、小集団活動「3C」発足
    • 12.-
      信越半導体、磯部工場開発部を半導体研究所に改組
  • 1982
    • 2.4
      信越半導体がピーダブリューセンター設立
    • 3.31
      武生工場、マグネット第2工場完成
    • 4.2
      直江津工場、セルロース誘導体“HEMC”(ヒドロキシエチルメチルセルロース)製造設備完成
    • 5.22
      磯部工場グループの小集団活動を再編し「JUMP-I」と命名
    • 6.1
      新定年制度(満58歳)、信越年金制度制定
    • 6.3
      「脱アセトンタイプシリコーン一液型RTVゴムの開発」で全国発明表彰の発明協会発明賞受賞
    • 7.15
    • 7.26
      直江津工場、ジクロロシラン製造設備完成
    • 8.17
    • 10.1
      ロサンゼルス駐在員事務所設置
    • 10.18
      武生工場グループの小集団活動を「3T」と命名
    • 11.1
      信越半導体がいわき半導体設立
  • 1983
    • 4.-
      「腸内溶解性化合物製造法の開発」で科学技術庁長官賞受賞
    • 6.1
      有機合成事業部設置(酢ビ・ポバール、ファインケミカル両事業部を統合)
    • 6.17
      磯部工場、特殊・変性シリコーン製造設備完成
    • 7.1
    • 7.21
      磯部工場、EMC設備増強工事完成
    • 7.29
      磯部工場郷原分工場、シリコーン一液型RTVゴム製造設備完成
    • 7.-
      水中不分離性コンクリート用混和剤“アスカクリーン”販売開始
    • 8.30
      小田切新太郎、代表取締役会長に就任。小坂雄太郎、代表取締役社長に就任
    • 8.-
      信越石英が福島信越石英設立
    • 10.1
      エスアイ加工設立
    • 11.30
      シリコーン電子材料技術研究所、第3研究棟完成
    • 12.12
      信越ポリマー、東京証券取引所第2部に上場
    • 12.16
      信越石英、福井信越石英設立
  • 1984
    • 1.1
      南陽工場の重合器2基を廃棄処分、鹿島工場の重合器1基を休止処分
    • 1.-
      信越電炉解散
    • 2.-
      SEHアメリカ社オーチャード工場操業開始
    • 3.24
      信越半導体、白河工場着工
    • 5.8
      福島信越石英、郡山工場完成
    • 5.9
      信越半導体、英にSEHヨーロッパ社設立
    • 5.22
      武生工場朝日分工場、操業開始
    • 5.26
      直江津工場、CFシラン第2工場完成
    • 5.-
      武生工場のMC製造をシンエツ化成に移管
    • 三益半導体工業に資本参加
    • 6.12
      第2回転換社債(70億円)および外貨建転換社債(3000万スイスフラン)発行
    • 6.20
      福井信越石英、工場完成
    • 6.28
      米のヘムロックセミコンダクターに資本参加
    • 7.6
      合成技術研究所、新研究棟完成
    • 7.23
      シンガポール駐在員事務所設置
    • 7.-
      鹿島電解、水銀法からイオン交換膜法への転換完了
    • 8.17
      ノルウェーのノルスクハイドロ社への塩ビ新技術・プラント輸出契約締結
    • 8.-
      シンテック社、フリーポート工場第3次増設工事完成(年産45万t)
    • ロンドン駐在員事務所閉鎖
    • 正英石英硝子、山形信越石英に社名変更
    • 9.1
    • 9.-
      直江津電子工業、石英加工部門を大潟工場に移転
    • 10.3
    • 10.9
      元社長小林周蔵逝去(85歳)
    • 11.26
      直江津工場、医薬用セルロース誘導体“L-HPC”製造設備完成
    • 12.8
      信越石英、台湾に崇越石英設立
    • 12.14
      信越半導体、白河工場操業開始
    • 12.-
      信越半導体、犀潟工場操業開始
  • 1985
    • 1.10
      信越マグネット設立
    • 1.24
      信建産業が信建総合設備設立
    • 1.-
      SEHヨーロッパ社、操業開始
    • 2.5
      信越石英、韓国に永信石英設立
    • 2.-
      信越石英、石英技術研究所設置
    • 3.4
      外貨建転換社債(3000万ユーロドル、8000万スイスフラン)発行
    • 3.25
    • 3.30
      シリコーン電子材料技術研究所、超高純度窒化ホウ素(PBN)製造設備完成
    • 4.1
      有機合成事業部に医薬材料部設置
    • 塩ビ技術研究所を高分子機能性材料研究所に改称
    • 4.2
      富士システムズに資本参加
    • 5.10
      磯部工場、メチルシラン合成設備(MR-9)完成
    • 6.5
      「メルカプト基含有シリコーンゴム組成物(SEPラバー)の開発」で全国発明表彰の発明協会発明賞受賞
    • 7.10
      鹿島工場、ノンスケール剤製造設備完成
    • 7.23
      磯部工場郷原分工場、シリコーンニ液型RTVゴム製造設備完成
    • 8.21
      シンテック社がK-Bin社設立
    • 9.2
      信越ポリマー、東京証券取引所第1部に上場
    • 9.18
      信越ポリマー、東京工場内に研究開発センター完成
    • 12.1
      CI推進委員会設置
    • 12.12
      直江津工場、電解工場の隔膜法からイオン交換膜法への転換完了
    • 12.17
      シンエツシリコーンズオブアメリカ社設立